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微细结构体的制造方法和图案介质的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200710104269.4
申请日
:
2007-05-23
公开(公告)号
:
CN101077768B
公开(公告)日
:
2007-11-28
发明(设计)人
:
吉田博史
长野秀树
长谷川博一
竹中干人
陈枫
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
B82B300
IPC分类号
:
G03F700
代理机构
:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人
:
王以平
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2007-11-28
公开
公开
2008-01-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2011-01-12
授权
授权
共 50 条
[1]
图案形成方法、和磁记录介质的制造方法
[P].
渡部彰
论文数:
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渡部彰
;
泷泽和孝
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泷泽和孝
;
木村香里
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木村香里
.
中国专利
:CN104517616A
,2015-04-15
[2]
微细结构体的制造方法、液体喷出头的制造方法和液体喷出头
[P].
久保田雅彦
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久保田雅彦
;
桧山亘
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桧山亘
.
中国专利
:CN1476977A
,2004-02-25
[3]
纳米结构图案的制造方法
[P].
R·贾甘纳坦
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R·贾甘纳坦
;
Y·Q·饶
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Y·Q·饶
;
X·-D·米
论文数:
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X·-D·米
.
中国专利
:CN101174085A
,2008-05-07
[4]
图案化介质及其制造方法
[P].
K·鲁宾
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K·鲁宾
;
R·鲁兹
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R·鲁兹
;
J·利尔
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J·利尔
;
L·万
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L·万
.
中国专利
:CN103680527A
,2014-03-26
[5]
细微结构体及其制造方法
[P].
多田靖彦
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多田靖彦
;
吉田博史
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吉田博史
.
中国专利
:CN102123941B
,2011-07-13
[6]
图案形成方法和偏光板的制造方法
[P].
涩谷和幸
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涩谷和幸
;
榊原重司
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榊原重司
;
菅原利明
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菅原利明
;
松野雄介
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松野雄介
;
高田昭夫
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高田昭夫
.
中国专利
:CN111512199B
,2020-08-07
[7]
多层结构体的制造方法
[P].
宫住伸太
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宫住伸太
;
江本芳雄
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江本芳雄
;
井上馨
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井上馨
.
中国专利
:CN1867441A
,2006-11-22
[8]
包含相分离结构的结构体的制造方法
[P].
太宰尚宏
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太宰尚宏
;
山野仁诗
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山野仁诗
;
川上晃也
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川上晃也
;
宫城贤
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宫城贤
.
中国专利
:CN109790312A
,2019-05-21
[9]
多层结构体的制造方法
[P].
五十岚武之
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五十岚武之
;
羽田泰彦
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羽田泰彦
;
北村昌宏
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北村昌宏
.
中国专利
:CN102844185A
,2012-12-26
[10]
层叠体的制造方法
[P].
小野友裕
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小野友裕
;
赤井真
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赤井真
;
川原萌
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川原萌
;
中田加那予
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中田加那予
.
中国专利
:CN112689561A
,2021-04-20
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