纳米结构图案的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710142318.3

申请日：

2007-08-13

公开(公告)号：

CN101174085A

公开(公告)日：

2008-05-07

发明(设计)人：

R·贾甘纳坦 Y·Q·饶 X·－D·米

申请人：

申请人地址：

丹麦哥本哈根

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

沙永生

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-05-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101085550158 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2007101423183 公开日:20080507
2008-07-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-05-07	公开	公开

共 50 条

[1]

微结构图案 [P].

亨利·克劳迪乌斯·比林斯基 .

中国专利 :CN108369371A ,2018-08-03

[2]

一种基于纳米压印技术的防伪微纳米结构图案的制备方法 [P].

曾阿梅 ;

陈静 ;

方长青 ;

程有亮 .

中国专利 :CN114415468A ,2022-04-29

[3]

一种基于纳米压印技术的防伪微纳米结构图案的制备方法 [P].

曾阿梅 ;

陈静 ;

方长青 ;

程有亮 .

中国专利 :CN114415468B ,2025-05-23

[4]

将自组装纳米结构图案化及形成多孔电介质的方法 [P].

陈光荣 ;

李伟健 ;

杨海宁 .

中国专利 :CN101335190A ,2008-12-31

[5]

形成构图结构的方法 [P].

M·A·古罗恩 ;

黎家辉 ;

J·W·皮特拉 ;

蔡欣妤 .

中国专利 :CN103839785A ,2014-06-04

[6]

图案化介质及其制造方法 [P].

K·鲁宾 ;

R·鲁兹 ;

J·利尔 ;

L·万 .

中国专利 :CN103680527A ,2014-03-26

[7]

图案形成方法、和磁记录介质的制造方法 [P].

渡部彰 ;

泷泽和孝 ;

木村香里 .

中国专利 :CN104517616A ,2015-04-15

[8]

微细结构体的制造方法和图案介质的制造方法 [P].

吉田博史 ;

长野秀树 ;

长谷川博一 ;

竹中干人 ;

陈枫 .

中国专利 :CN101077768B ,2007-11-28

[9]

用于在光学和相关装置中应用的纳米图案化表面的制造 [P].

P·摩凯里恩·泰伯里 ;

M·莫里斯 ;

R·森塔玛拉凯南 .

中国专利 :CN108886064A ,2018-11-23

[10]

半导体器件的精细构图方法 [P].

李时镛 ;

金京泽 ;

金贤友 ;

尹东基 .

中国专利 :CN101458461A ,2009-06-17

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