等离子体增强化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721629939.X

申请日：

2017-11-29

公开(公告)号：

CN207713814U

公开(公告)日：

2018-08-10

发明(设计)人：

胡冬冬

申请人：

申请人地址：

221300 江苏省徐州市邳州市经济开发区辽河西路8号

IPC主分类号：

C23C1650

IPC分类号：

C23C1652

代理机构：

北京得信知识产权代理有限公司 11511

代理人：

袁伟东;袁建水

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-08-10	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

姜杉 ;

李建东 ;

杨志永 .

中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22

[2]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

吴斌 .

中国专利 :CN222935510U ,2025-06-03

[3]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

左凯峰 ;

季徐华 ;

王根江 .

中国专利 :CN201560236U ,2010-08-25

[4]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

张金中 .

中国专利 :CN202246858U ,2012-05-30

[5]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

陈有生 ;

张印奇 ;

刘传生 ;

董家伟 .

中国专利 :CN222499365U ,2025-02-18

[6]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[7]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

洪性喆 ;

李万镐 .

中国专利 :CN104769156A ,2015-07-08

[8]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

刘红义 .

中国专利 :CN102534568A ,2012-07-04

[9]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

郑友山 ;

杨斌 .

中国专利 :CN103866281A ,2014-06-18

[10]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

杜生平 ;

袁广才 .

中国专利 :CN205556778U ,2016-09-07

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