共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
等离子体增强化学气相沉积设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311846891.8
申请日：
2023-12-29
公开(公告)号：
CN120231033A
公开(公告)日：
2025-07-01
发明(设计)人：
欧阳亮
申请人：
理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司
申请人地址：
201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区江山路2699弄3号厂房
IPC主分类号：
C23C16/509
IPC分类号：
C23C16/52
C23C16/455
H01J37/32
代理机构：
代理人：
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
浙江省
衢州市
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-07-18 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/509申请日:20231229 |
| 2025-07-01 | 公开 | 公开 |