等离子体增强化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202022674599.0

申请日：

2020-11-18

公开(公告)号：

CN213142185U

公开(公告)日：

2021-05-07

发明(设计)人：

姜宇锡

申请人：

申请人地址：

510530 广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城开泰大道59号

IPC主分类号：

C23C1650

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

胡彬

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-07	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

张金中 .

中国专利 :CN202246858U ,2012-05-30

[2]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

陈金元 ;

刘传生 .

中国专利 :CN101974738A ,2011-02-16

[3]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

刘凤举 .

中国专利 :CN106245005A ,2016-12-21

[4]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

陈金元 ;

马哲国 ;

董家伟 ;

刘传生 ;

杨飞云 .

中国专利 :CN101974739A ,2011-02-16

[5]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[6]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

陈有生 ;

张印奇 ;

刘传生 ;

董家伟 .

中国专利 :CN222499365U ,2025-02-18

[7]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

韦刚 .

中国专利 :CN101880867A ,2010-11-10

[8]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

杜生平 ;

袁广才 .

中国专利 :CN205556778U ,2016-09-07

[9]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

何怀亮 .

中国专利 :CN207918951U ,2018-09-28

[10]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

姜杉 ;

李建东 ;

杨志永 .

中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22

← 1 2 3 4 5 →