剥离光阻用组成物及其使用方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410157681.2

申请日：

2014-04-18

公开(公告)号：

CN104122763A

公开(公告)日：

2014-10-29

发明(设计)人：

刘骐铭施俊安

申请人：

申请人地址：

中国台湾台南市仁德区三甲里三甲子59-1号

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101589572059 IPC(主分类):G03F 7/42 专利申请号:2014101576812 申请日:20140418
2014-10-29	公开	公开
2018-02-13	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F 7/42 申请公布日:20141029

共 50 条

[1]

光阻剥离液组成物及使用其剥离光阻的方法 [P].

朴勉奎 ;

金泰熙 ;

金正铉 ;

李承傭 ;

金炳默 .

中国专利 :CN102472985B ,2012-05-23

[2]

剥离剂组成物以及剥离光阻的方法 [P].

何启良 ;

蒋昀儒 ;

许庭睿 ;

蔡明佳 .

中国专利 :CN119432510A ,2025-02-14

[3]

光阻剥离剂组成物 [P].

朴永真 ;

韩斗锡 ;

李相大 ;

申孝燮 .

中国专利 :CN102893218B ,2013-01-23

[4]

非水系光阻剥离剂组成物 [P].

朴勉奎 ;

金正铉 ;

李承傭 ;

金炳默 .

中国专利 :CN102667628A ,2012-09-12

[5]

光阻组成物 [P].

訾安仁 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN110874016A ,2020-03-10

[6]

抛光组成物及其使用方法 [P].

范涵育 ;

胡斌 ;

梁燕南 ;

黄亭凯 ;

E·特纳 .

美国专利 :CN121079371A ,2025-12-05

[7]

麻醉组成物及其使用方法 [P].

罗斯·克拉克·特雷尔 .

中国专利 :CN88100564A ,1988-08-17

[8]

清洁组成物及其使用方法 [P].

李巍 ;

胡斌 ;

杉村宣明 .

美国专利 :CN120981560A ,2025-11-18

[9]

用于去除光阻剂的剥离剂组合物及使用其剥离光阻剂的方法 [P].

郑大哲 ;

李东勋 ;

李佑然 ;

朴泰文 .

中国专利 :CN105143984B ,2015-12-09

[10]

正型光阻剂组成物及其应用 [P].

廖信铭 ;

陈昱名 ;

李晏成 .

中国专利 :CN1815367A ,2006-08-09

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