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真空等离子体表面处理设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201420044840.3
申请日：
2014-01-21
公开(公告)号：
CN203691734U
公开(公告)日：
2014-07-02
发明(设计)人：
刘善双
毕学谦
刘镇伟
申请人：
申请人地址：
518000 广东省深圳市宝安区沙井街道大王山工业一路二号第6层南
IPC主分类号：
H05H124
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2014-07-02 | 授权 | 授权 |
| 2022-01-04 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20140121 授权公告日:20140702 终止日期:20210121 |