基于数字微镜器件无掩膜光刻的旋转式曝光系统及方法

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专利类型
发明
申请号
CN201711041925.0
申请日
2017-10-30
公开(公告)号
CN107908077A
公开(公告)日
2018-04-13
发明(设计)人
李木军 季超 朱俊杰 邱金峰
申请人
申请人地址
230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
北京凯特来知识产权代理有限公司 11260
代理人
郑立明;付久春
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
无掩膜光刻系统的直帧式数据处理方法及曝光系统 [P]. 
俞庆平 ;
俞逸骐 .
中国专利 :CN118584766A ,2024-09-03
[2]
用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置 [P]. 
张昌清 ;
李文静 ;
何少峰 ;
刘文海 .
中国专利 :CN202486436U ,2012-10-10
[3]
掩膜版及掩膜曝光系统、拼接曝光方法、基板 [P]. 
胡明 ;
张明 ;
刘国冬 ;
许邹明 .
中国专利 :CN106200254A ,2016-12-07
[4]
光刻的曝光方法及曝光系统 [P]. 
张飞 .
中国专利 :CN101359181A ,2009-02-04
[5]
用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机 [P]. 
桂立 ;
陆永杰 .
中国专利 :CN217238599U ,2022-08-19
[6]
基于空间光调制器的无掩膜图形曝光系统 [P]. 
丁海生 ;
李东昇 ;
马新刚 ;
江忠永 ;
张昊翔 ;
李超 .
中国专利 :CN102778820A ,2012-11-14
[7]
基于数字微镜器件的无串扰并行OCT成像方法及系统 [P]. 
丁志华 ;
杨亚良 ;
刘旭 .
中国专利 :CN100403087C ,2007-03-07
[8]
一种基于数字微镜器件的匀光系统 [P]. 
余卿 ;
崔长彩 ;
付胜杰 ;
缪晶晶 .
中国专利 :CN203838406U ,2014-09-17
[9]
一种基于数字微镜器件的匀光系统 [P]. 
余卿 ;
崔长彩 ;
付胜杰 ;
缪晶晶 .
中国专利 :CN103984090A ,2014-08-13
[10]
基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置 [P]. 
严伟 ;
唐小萍 ;
胡松 ;
邢薇 ;
赵立新 ;
杨勇 ;
杨文波 ;
杨波 ;
周绍林 ;
陈旺富 .
中国专利 :CN101320222A ,2008-12-10