用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机

被引：0

申请号：

CN202123122311.X

申请日：

2021-12-13

公开(公告)号：

CN217238599U

公开(公告)日：

2022-08-19

发明(设计)人：

桂立陆永杰

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市高新区浒杨路58号303室

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288

代理人：

莫月燕

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-19	授权	授权

共 50 条

[1]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497424S ,2013-07-10

[2]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497425S ,2013-07-10

[3]

无掩膜光刻机控制系统 [P].

叶权 ;

向正西 .

中国专利 :CN208819019U ,2019-05-03

[4]

提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机 [P].

卞洪飞 ;

张辉 ;

叶加良 ;

陈东 .

中国专利 :CN119292005B ,2025-10-10

[5]

提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机 [P].

卞洪飞 ;

张辉 ;

叶加良 ;

陈东 .

中国专利 :CN119292005A ,2025-01-10

[6]

一种简易的无掩膜光刻机 [P].

袁根如 ;

郝茂盛 ;

张楠 ;

李士涛 ;

朱广敏 ;

陈诚 .

中国专利 :CN202735679U ,2013-02-13

[7]

一种新型无掩膜光刻机 [P].

彭劲 .

中国专利 :CN117420739A ,2024-01-19

[8]

光刻机及其掩膜机台 [P].

张良 ;

吴静銮 ;

郭伟 ;

胡媛 ;

卢盈 ;

陈雪银 ;

田金华 ;

李成良 ;

韩姣 .

中国专利 :CN206757297U ,2017-12-15

[9]

紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统以及光刻机 [P].

李鹏飞 ;

杨宇航 ;

蔡潍 ;

戚蓉蓉 .

中国专利 :CN215067714U ,2021-12-07

[10]

一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺 [P].

冯捷 ;

吴阳 ;

严振中 ;

刘威 .

中国专利 :CN113064330B ,2021-07-02

← 1 2 3 4 5 →