无掩膜光刻机控制系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821767365.7

申请日：

2018-10-29

公开(公告)号：

CN208819019U

公开(公告)日：

2019-05-03

发明(设计)人：

叶权向正西

申请人：

申请人地址：

528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

冯右明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-03	授权	授权

共 50 条

[1]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497424S ,2013-07-10

[2]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497425S ,2013-07-10

[3]

用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机 [P].

桂立 ;

陆永杰 .

中国专利 :CN217238599U ,2022-08-19

[4]

紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统以及光刻机 [P].

李鹏飞 ;

杨宇航 ;

蔡潍 ;

戚蓉蓉 .

中国专利 :CN215067714U ,2021-12-07

[5]

一种简易的无掩膜光刻机 [P].

袁根如 ;

郝茂盛 ;

张楠 ;

李士涛 ;

朱广敏 ;

陈诚 .

中国专利 :CN202735679U ,2013-02-13

[6]

一种新型无掩膜光刻机 [P].

彭劲 .

中国专利 :CN117420739A ,2024-01-19

[7]

光刻机及其掩膜机台 [P].

张良 ;

吴静銮 ;

郭伟 ;

胡媛 ;

卢盈 ;

陈雪银 ;

田金华 ;

李成良 ;

韩姣 .

中国专利 :CN206757297U ,2017-12-15

[8]

紫外宽光谱无掩膜光刻成像系统以及光刻机 [P].

李鹏飞 ;

杨宇航 ;

蔡潍 ;

戚蓉蓉 .

中国专利 :CN113219793B ,2021-08-06

[9]

一种高精度无掩膜光刻系统、控制系统 [P].

龚子丹 ;

方源 ;

卓尔瀚 ;

李雨堯 ;

张杰 ;

刘钊 ;

卓杰凯 .

中国专利 :CN117631479A ,2024-03-01

[10]

无掩膜光刻设备 [P].

周沪宁 .

中国专利 :CN206991021U ,2018-02-09

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