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一种高精度无掩膜光刻系统、控制系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311832701.7
申请日：
2023-12-26
公开(公告)号：
CN117631479A
公开(公告)日：
2024-03-01
发明(设计)人：
龚子丹
方源
卓尔瀚
李雨堯
张杰
刘钊
卓杰凯
申请人：
深圳技术大学
申请人地址：
518118 广东省深圳市坪山区石井街道兰田路3002号
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268
代理人：
刘芙蓉
法律状态：
公开
国省代码：
广东省
深圳市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-03-01 | 公开 | 公开 |
| 2024-03-19 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20231226 |