一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011374596.3

申请日：

2020-11-30

公开(公告)号：

CN112379578B

公开(公告)日：

2025-11-25

发明(设计)人：

吴明仓

申请人：

广东思沃激光科技有限公司

申请人地址：

523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区研发一路1号A栋2楼A区

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414

代理人：

李金伟

法律状态：

授权

国省代码：

广东省东莞市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-25	授权	授权
2025-12-19	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移IPC(主分类):G03F 7/20登记生效日:20251203变更事项:专利权人变更前权利人:广东思沃激光科技有限公司变更后权利人:广东思沃先进装备有限公司变更事项:国家或地区变更前权利人:中国变更后权利人:中国变更事项:地址变更前权利人:523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区研发一路1号A栋2楼A区变更后权利人:523000 广东省东莞市园区兴业路2号13栋

共 50 条

[1]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379578A ,2021-02-19

[2]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379577A ,2021-02-19

[3]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379577B ,2025-11-25

[4]

一种无掩膜光刻设备 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN213750654U ,2021-07-20

[5]

一种无掩膜光刻设备 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN214011719U ,2021-08-20

[6]

无掩膜光刻设备 [P].

周沪宁 .

中国专利 :CN206991021U ,2018-02-09

[7]

无掩膜光刻装置 [P].

谢常青 ;

潘一鸣 ;

朱效立 ;

刘明 .

中国专利 :CN102478767A ,2012-05-30

[8]

一种无掩膜光刻校准方法 [P].

张伟华 ;

陈慕龄 .

中国专利 :CN114200781B ,2022-03-18

[9]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497424S ,2013-07-10

[10]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497425S ,2013-07-10

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