一种无掩膜光刻校准方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111515272.1

申请日：

2021-12-13

公开(公告)号：

CN114200781B

公开(公告)日：

2022-03-18

发明(设计)人：

张伟华陈慕龄

申请人：

申请人地址：

210046 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900

代理机构：

江苏法德东恒律师事务所 32305

代理人：

李媛媛

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-06	授权	授权
2022-04-05	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20211213
2022-03-18	公开	公开

共 50 条

[1]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379578A ,2021-02-19

[2]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379577A ,2021-02-19

[3]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379578B ,2025-11-25

[4]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379577B ,2025-11-25

[5]

一种无掩膜光刻设备 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN213750654U ,2021-07-20

[6]

一种无掩膜光刻设备 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN214011719U ,2021-08-20

[7]

无掩膜光刻装置 [P].

谢常青 ;

潘一鸣 ;

朱效立 ;

刘明 .

中国专利 :CN102478767A ,2012-05-30

[8]

无掩膜光刻设备 [P].

周沪宁 .

中国专利 :CN206991021U ,2018-02-09

[9]

一种高精度无掩膜光刻系统、控制系统 [P].

龚子丹 ;

方源 ;

卓尔瀚 ;

李雨堯 ;

张杰 ;

刘钊 ;

卓杰凯 .

中国专利 :CN117631479A ,2024-03-01

[10]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497424S ,2013-07-10

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