提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411720670.0

申请日：

2024-11-28

公开(公告)号：

CN119292005A

公开(公告)日：

2025-01-10

发明(设计)人：

卞洪飞张辉叶加良陈东

申请人：

合肥芯碁微电子装备股份有限公司

申请人地址：

230088 安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京景闻知识产权代理有限公司 11742

代理人：

许磊磊

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-10	公开	公开
2025-10-10	授权	授权
2025-01-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20241128

共 50 条

[1]

提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机 [P].

卞洪飞 ;

张辉 ;

叶加良 ;

陈东 .

中国专利 :CN119292005B ,2025-10-10

[2]

用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机 [P].

桂立 ;

陆永杰 .

中国专利 :CN217238599U ,2022-08-19

[3]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497424S ,2013-07-10

[4]

无掩膜光刻机 [P].

王楠 ;

胡松 ;

赵立新 ;

王淑蓉 ;

陈铭勇 ;

其他设计人请求不公开姓名 .

中国专利 :CN302497425S ,2013-07-10

[5]

光刻机曝光方法 [P].

黄玮 .

中国专利 :CN102540731B ,2012-07-04

[6]

曝光装置及光刻机 [P].

周朦 ;

李鑫 ;

王永锋 ;

李新章 .

中国专利 :CN223065644U ,2025-07-04

[7]

控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03

[8]

光刻机对准方法、装置及光刻机 [P].

罗先刚 ;

李成建 ;

刘明刚 .

中国专利 :CN119356050A ,2025-01-24

[9]

光刻机及光刻机的压板装置 [P].

胡刚 ;

陈东 ;

项宗齐 .

中国专利 :CN214375824U ,2021-10-08

[10]

光刻机及其掩膜机台 [P].

张良 ;

吴静銮 ;

郭伟 ;

胡媛 ;

卢盈 ;

陈雪银 ;

田金华 ;

李成良 ;

韩姣 .

中国专利 :CN206757297U ,2017-12-15

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