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一种基于无掩膜光刻机的数字掩膜版工艺
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110344156.1
申请日：
2021-03-31
公开(公告)号：
CN113064330B
公开(公告)日：
2021-07-02
发明(设计)人：
冯捷
吴阳
严振中
刘威
申请人：
申请人地址：
215000 江苏省苏州市工业园区若水路388号H402室
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357
代理人：
廖娜
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-07-02 | 公开 | 公开 |
| 2021-07-20 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20210331 |
| 2022-09-20 | 授权 | 授权 |