湿法刻蚀硅片水覆膜装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420850778.7

申请日：

2014-12-29

公开(公告)号：

CN204361117U

公开(公告)日：

2015-05-27

发明(设计)人：

李清郎

申请人：

申请人地址：

074000 河北省保定市高碑店市新工业区

IPC主分类号：

H01L3118

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

郑小粤

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-05-27	授权	授权
2016-08-03	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101736814124 IPC(主分类):H01L 31/18 专利号:ZL2014208507787 登记生效日:20160715 变更事项:专利权人变更前权利人:光为绿色能源科技有限公司变更后权利人:保定光为绿色能源科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:074000 河北省保定市高碑店市新工业区变更后权利人:074000 河北省保定市高碑店市东方路北侧兴隆大街西侧
2016-07-20	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101735743137 IPC(主分类):H01L 31/18 专利号:ZL2014208507787 变更事项:专利权人变更前:光为绿色新能源股份有限公司变更后:光为绿色能源科技有限公司变更事项:地址变更前:074000 河北省保定市高碑店市新工业区变更后:074000 河北省保定市高碑店市新工业区

共 50 条

[1]

硅片湿法刻蚀装置 [P].

尹丽丽 ;

郎芳 ;

潘明翠 ;

李献朋 ;

郭晓杰 ;

于航 ;

薛敬伟 ;

史金超 ;

于波 .

中国专利 :CN222421892U ,2025-01-28

[2]

硅片湿法刻蚀表面水膜均匀铺设装置 [P].

杨光 .

中国专利 :CN208240617U ,2018-12-14

[3]

硅片湿法刻蚀机 [P].

陈五奎 ;

李军 ;

徐文州 ;

陈磊 ;

冯加保 .

中国专利 :CN204189774U ,2015-03-04

[4]

硅片湿法刻蚀设备 [P].

卫志敏 ;

肖新民 ;

丁志强 ;

祁宏山 ;

王文杰 ;

彭文龙 .

中国专利 :CN203754809U ,2014-08-06

[5]

刻蚀硅片水膜去水装置 [P].

孙铁囤 ;

姚伟忠 ;

徐天伟 .

中国专利 :CN206236654U ,2017-06-09

[6]

湿法刻蚀机台及消除硅片刻蚀差异的方法 [P].

杨华 ;

姚嫦娲 .

中国专利 :CN101886262B ,2010-11-17

[7]

硅片和湿法刻蚀系统 [P].

黄华 ;

蒋方丹 ;

金浩 ;

陈康平 .

中国专利 :CN104409390A ,2015-03-11

[8]

硅片湿法刻蚀设备及其刻蚀方法 [P].

卫志敏 ;

肖新民 ;

丁志强 ;

祁宏山 ;

王文杰 ;

彭文龙 .

中国专利 :CN103805998A ,2014-05-21

[9]

一种太阳能电池湿法刻蚀水膜装置 [P].

柯希满 ;

童锐 ;

张满良 .

中国专利 :CN207425896U ,2018-05-29

[10]

一种多晶硅片水膜保护扩散面刻蚀装置 [P].

王泉龙 ;

李琪 ;

孙珠珠 ;

周国栋 .

中国专利 :CN214043617U ,2021-08-24

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