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晶圆背面清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202022807121.0
申请日
:
2020-11-27
公开(公告)号
:
CN214099590U
公开(公告)日
:
2021-08-31
发明(设计)人
:
许忠晖
王东铭
陈嘉勇
杨昱霖
申请人
:
申请人地址
:
250101 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L2102
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
李宁
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-31
授权
授权
共 50 条
[1]
晶圆背面清洗装置
[P].
郝静安
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0
郝静安
;
舒强
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舒强
;
邢滨
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邢滨
.
中国专利
:CN203774251U
,2014-08-13
[2]
晶圆背面清洗装置
[P].
孔德平
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孔德平
;
胡华勇
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胡华勇
.
中国专利
:CN203967038U
,2014-11-26
[3]
晶圆背面清洗装置
[P].
孔德平
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孔德平
;
胡华勇
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胡华勇
.
中国专利
:CN203721680U
,2014-07-16
[4]
晶圆背面清洗装置
[P].
王磊
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王磊
.
中国专利
:CN202224393U
,2012-05-23
[5]
晶圆背面清洗装置
[P].
孙德富
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
孙德富
;
徐择君
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
徐择君
;
赖锦平
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
赖锦平
;
刘纵曙
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
刘纵曙
.
中国专利
:CN222581107U
,2025-03-07
[6]
一种晶圆背面清洗装置
[P].
李林
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李林
;
吴宣
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吴宣
.
中国专利
:CN218471901U
,2023-02-10
[7]
晶圆背面清洗装置、晶圆清洗设备及晶圆清洗方法
[P].
徐俊成
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
徐俊成
;
刘福生
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
刘福生
;
刘效岩
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
刘效岩
;
康凯祥
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机构:
华海清科(北京)科技有限公司
华海清科(北京)科技有限公司
康凯祥
.
中国专利
:CN119426317A
,2025-02-14
[8]
一种晶圆背面清洗装置
[P].
张飘
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机构:
浙江芯晖装备技术有限公司
浙江芯晖装备技术有限公司
张飘
;
范小军
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机构:
浙江芯晖装备技术有限公司
浙江芯晖装备技术有限公司
范小军
;
张峰
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机构:
浙江芯晖装备技术有限公司
浙江芯晖装备技术有限公司
张峰
;
盛湘远
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机构:
浙江芯晖装备技术有限公司
浙江芯晖装备技术有限公司
盛湘远
.
中国专利
:CN222999217U
,2025-06-20
[9]
一种晶圆背面清洗装置
[P].
周贤炳
论文数:
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机构:
拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司
拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司
周贤炳
.
中国专利
:CN223390531U
,2025-09-26
[10]
晶圆背面清洗装置及清洗方法
[P].
王坚
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王坚
;
赵宇
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赵宇
;
吴均
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吴均
;
陈福发
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陈福发
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN103506339A
,2014-01-15
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