一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910054715.4

申请日：

2009-07-13

公开(公告)号：

CN101957563B

公开(公告)日：

2011-01-26

发明(设计)人：

于昊彭洪修刘兵

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

上海翰鸿律师事务所 31246

代理人：

李佳铭

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-09-24	授权	授权
2011-01-26	公开	公开
2012-08-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101307932960 IPC(主分类):G03F 7/42 专利申请号:2009100547154 申请日:20090713

共 50 条

[1]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

彭杏 ;

于昊 .

中国专利 :CN101597548A ,2009-12-09

[2]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101412949A ,2009-04-22

[3]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101412950A ,2009-04-22

[4]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101827927A ,2010-09-08

[5]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN102827707A ,2012-12-19

[6]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN102047184A ,2011-05-04

[7]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

孙广胜 .

中国专利 :CN102827708A ,2012-12-19

[8]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

彭杏 ;

于昊 .

中国专利 :CN101666984B ,2010-03-10

[9]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN101955852A ,2011-01-26

[10]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 ;

彭杏 .

中国专利 :CN101561641A ,2009-10-21

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