一种等离子刻蚀残留物清洗液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880113047.1

申请日：

2008-10-20

公开(公告)号：

CN101827927A

公开(公告)日：

2010-09-08

发明(设计)人：

刘兵彭洪修于昊

申请人：

申请人地址：

201203 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室

IPC主分类号：

C11D734

IPC分类号：

C11D732 H01L21302

代理机构：

上海翰鸿律师事务所 31246

代理人：

李佳铭

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-08	公开	公开
2012-06-13	授权	授权

共 50 条

[1]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101412950A ,2009-04-22

[2]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101412949A ,2009-04-22

[3]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 .

中国专利 :CN101827926A ,2010-09-08

[4]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

孙广胜 ;

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN102827707A ,2012-12-19

[5]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

孙广胜 .

中国专利 :CN102827708A ,2012-12-19

[6]

一种清洗等离子刻蚀残留物的清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

曾浩 .

中国专利 :CN101290482A ,2008-10-22

[7]

一种清洗等离子刻蚀残留物的清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 .

中国专利 :CN101652717A ,2010-02-17

[8]

一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

于昊 ;

彭洪修 ;

刘兵 .

中国专利 :CN101957563B ,2011-01-26

[9]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

彭杏 ;

于昊 .

中国专利 :CN101597548A ,2009-12-09

[10]

一种等离子刻蚀残留物清洗液 [P].

刘兵 ;

彭洪修 ;

于昊 ;

彭杏 .

中国专利 :CN101561641A ,2009-10-21

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