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一种投影式光刻机的光源结构、投影式光刻机及光刻工艺
被引：0
申请号：
CN202210776304.1
申请日：
2022-07-04
公开(公告)号：
CN114839843A
公开(公告)日：
2022-08-02
发明(设计)人：
季明华
任新平
黄早红
申请人：
申请人地址：
201306 上海市浦东新区中国上海市临港新片区层林路688号1号楼5楼
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人：
罗泳文
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-08-19 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20220704 |
| 2022-08-02 | 公开 | 公开 |