正性光敏聚酰亚胺光刻胶用显影液

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专利类型
发明
申请号
CN200810046081.3
申请日
2008-09-17
公开(公告)号
CN101359189A
公开(公告)日
2009-02-04
发明(设计)人
蒋亚东 唐先忠 王涛 王军
申请人
申请人地址
610054四川省成都市建设北路二段4号
IPC主分类号
G03F732
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
正性光敏聚酰亚胺光刻胶用中性显影液 [P]. 
唐先忠 ;
王涛 ;
蒋亚东 ;
李伟 ;
王军 .
中国专利 :CN101364055A ,2009-02-11
[2]
一种光刻胶显影液 [P]. 
罗利 .
中国专利 :CN106527065A ,2017-03-22
[3]
光刻胶显影液 [P]. 
郑玄铁 ;
李相大 ;
丁镇培 .
中国专利 :CN106406037B ,2017-02-15
[4]
光刻胶显影液 [P]. 
东野诚司 ;
名塚康隆 .
中国专利 :CN101657761A ,2010-02-24
[5]
一种正性光敏聚酰亚胺光刻胶和聚酰亚胺薄膜及其应用 [P]. 
郭海泉 ;
李泽宇 ;
时舜 ;
张春华 ;
马姣姣 ;
杨正华 .
中国专利 :CN120491388A ,2025-08-15
[6]
负性光刻胶显影液及其制备方法、应用 [P]. 
王芳 ;
王博 ;
尹怀刚 ;
侯倩 .
中国专利 :CN113253580A ,2021-08-13
[7]
一种负性光刻胶显影液及其制备方法 [P]. 
卢燕燕 ;
张丽燕 .
中国专利 :CN113848686A ,2021-12-28
[8]
EUV用感光性光刻胶微细图案形成用显影液组合物 [P]. 
李秀珍 ;
金起洪 ;
李昇勋 ;
李昇炫 .
中国专利 :CN110476127A ,2019-11-19
[9]
一种负性光敏聚酰亚胺光刻胶和聚酰亚胺薄膜及其应用 [P]. 
郭海泉 ;
李泽宇 ;
时舜 ;
张春华 ;
马姣姣 ;
杨正华 .
中国专利 :CN120559946A ,2025-08-29
[10]
一种用于AMOLED负性光刻胶显影液 [P]. 
白航空 .
中国专利 :CN107678252A ,2018-02-09