正性光敏聚酰亚胺光刻胶用中性显影液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810046078.1

申请日：

2008-09-17

公开(公告)号：

CN101364055A

公开(公告)日：

2009-02-11

发明(设计)人：

唐先忠王涛蒋亚东李伟王军

申请人：

申请人地址：

610054四川省成都市建设北路二段四号

IPC主分类号：

G03F732

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-11-05	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101588053200 IPC(主分类):G03F 7/32 专利号:ZL2008100460781 申请日:20080917 授权公告日:20111109 终止日期:20130917
2009-02-11	公开	公开
2011-11-09	授权	授权
2009-04-15	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

正性光敏聚酰亚胺光刻胶用显影液 [P].

蒋亚东 ;

唐先忠 ;

王涛 ;

王军 .

中国专利 :CN101359189A ,2009-02-04

[2]

一种光刻胶显影液 [P].

罗利 .

中国专利 :CN106527065A ,2017-03-22

[3]

光刻胶显影液 [P].

东野诚司 ;

名塚康隆 .

中国专利 :CN101657761A ,2010-02-24

[4]

光刻胶显影液 [P].

郑玄铁 ;

李相大 ;

丁镇培 .

中国专利 :CN106406037B ,2017-02-15

[5]

一种正性光敏聚酰亚胺光刻胶和聚酰亚胺薄膜及其应用 [P].

郭海泉 ;

李泽宇 ;

时舜 ;

张春华 ;

马姣姣 ;

杨正华 .

中国专利 :CN120491388A ,2025-08-15

[6]

负性光刻胶显影液及其制备方法、应用 [P].

王芳 ;

王博 ;

尹怀刚 ;

侯倩 .

中国专利 :CN113253580A ,2021-08-13

[7]

一种负性光刻胶显影液及其制备方法 [P].

卢燕燕 ;

张丽燕 .

中国专利 :CN113848686A ,2021-12-28

[8]

一种负性光敏聚酰亚胺光刻胶和聚酰亚胺薄膜及其应用 [P].

郭海泉 ;

李泽宇 ;

时舜 ;

张春华 ;

马姣姣 ;

杨正华 .

中国专利 :CN120559946A ,2025-08-29

[9]

一种用于AMOLED负性光刻胶显影液 [P].

白航空 .

中国专利 :CN107678252A ,2018-02-09

[10]

正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法 [P].

姚广福 ;

钱志浩 .

中国专利 :CN102540771A ,2012-07-04

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