用于保护敏感基材的掩蔽膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980084109.9

申请日：

2019-12-13

公开(公告)号：

CN113195227A

公开(公告)日：

2021-07-30

发明(设计)人：

G·K·琼斯 B·B·戴塞 C·D·雷 S·帕克 K·A·布拉迪

申请人：

申请人地址：

美国弗吉尼亚

IPC主分类号：

B32B2700

IPC分类号：

C09J740 B32B2732 B32B706 B32B2708 B32B2730 G02B3025 C09J720 C09J724 C09J738

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

王刚

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-07	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B32B 27/00 申请日:20191213
2021-07-30	公开	公开

共 50 条

[1]

用于保护敏感基材的掩蔽膜 [P].

G·K·琼斯 ;

B·B·戴塞 ;

C·D·雷 ;

S·帕克 ;

K·A·布拉迪 .

美国专利 :CN119799192A ,2025-04-11

[2]

用于有纹理的基材的保护膜 [P].

S·C·帕特尔 ;

G·M·巴拉克霍夫 ;

B·B·德塞 .

中国专利 :CN101856897B ,2010-10-13

[3]

用于半导体晶片背磨的表面保护带，以及用于所述表面保护带的基材膜 [P].

船崎浩司 ;

儿岛久富 ;

林直哉 ;

横井正之 .

中国专利 :CN101416282A ,2009-04-22

[4]

表面保护膜 [P].

S·苏巴马尼亚姆 ;

R·桑托索 .

中国专利 :CN114269558A ,2022-04-01

[5]

表面保护膜 [P].

R·桑托索 ;

S·C·帕特尔 ;

C·D·雷 ;

B·B·德赛 .

中国专利 :CN107207925B ,2017-09-26

[6]

保护膜、用于晶圆划片膜的基材薄膜及其制造方法 [P].

陈田安 ;

崔庆珑 .

中国专利 :CN104788775B ,2018-04-27

[7]

用于表面保护片的基材和表面保护片 [P].

林圭治 ;

花木一康 ;

内田翔 ;

山户二郎 ;

武田公平 ;

泽﨑良平 .

中国专利 :CN102199317A ,2011-09-28

[8]

用于离型纸的排气型压纹基材 [P].

金闯 ;

周满意 .

中国专利 :CN106142808A ,2016-11-23

[9]

表面保护膜 [P].

长荣克和 ;

佐藤淳也 ;

德丸美之 ;

今井史朗 .

中国专利 :CN102834263A ,2012-12-19

[10]

表面保护膜 [P].

浅田善康 ;

寺内浩 ;

今井史朗 .

中国专利 :CN102844393A ,2012-12-26

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