保护膜、用于晶圆划片膜的基材薄膜及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201510136593.9
申请日
2015-03-26
公开(公告)号
CN104788775B
公开(公告)日
2018-04-27
发明(设计)人
陈田安 崔庆珑
申请人
申请人地址
215633 江苏省苏州市张家港保税区华达路36号科技创业园A幢313室威士达半导体科技(张家港)有限公司
IPC主分类号
C08L2306
IPC分类号
C08L2308 C08L3104 B29C6900
代理机构
常州市维益专利事务所(普通合伙) 32211
代理人
陆华君
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
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[2]
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[3]
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S·C·帕特尔 ;
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[9]
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[10]
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黑川敦史 ;
荒井隆行 ;
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