放射层析成像装置和使用该装置的成像方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510051780.3

申请日：

2005-01-07

公开(公告)号：

CN100382755C

公开(公告)日：

2005-10-19

发明(设计)人：

清野聪

申请人：

申请人地址：

美国威斯康星州

IPC主分类号：

A61B600

IPC分类号：

A61B603

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨松龄

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-04-23	授权	授权
2005-10-19	公开	公开
2005-12-14	实质审查的生效	实质审查的生效
2018-02-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A61B 6/00 申请日:20050107 授权公告日:20080423 终止日期:20170107

共 50 条

[1]

层析成像方法和装置 [P].

R.肖恩马克斯 ;

P.波托塞克 .

中国专利 :CN107843607B ,2018-03-27

[2]

光学相干层析成像装置和用于该装置的光源装置 [P].

野泽有司 ;

加藤千比吕 ;

加茂考史 .

中国专利 :CN109998473A ,2019-07-12

[3]

使用光学相干层析成像法的成像设备和成像方法 [P].

末平信人 .

中国专利 :CN103393399B ,2013-11-20

[4]

使用光学相干层析成像法的成像设备和成像方法 [P].

末平信人 .

中国专利 :CN102084240A ,2011-06-01

[5]

融合微波成像的电容层析成像方法和装置 [P].

叶佳敏 ;

吴蒙 ;

王海刚 .

中国专利 :CN106940337A ,2017-07-11

[6]

光学相干层析成像装置 [P].

山成正宏 .

中国专利 :CN110057286B ,2019-07-26

[7]

光学相干层析成像装置 [P].

户谷皇太 ;

杉山聪 .

日本专利 :CN117377423A ,2024-01-09

[8]

光学相干层析成像装置 [P].

户谷皇太 ;

杉山聪 .

中国专利 :CN114617528A ,2022-06-14

[9]

光学相干层析成像装置 [P].

山成正宏 .

中国专利 :CN110063714A ,2019-07-30

[10]

光学层析成像装置 [P].

T·尼尔森 ;

T·克勒 .

中国专利 :CN101262812B ,2008-09-10

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