光学记录介质及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110304743.4

申请日：

2008-11-25

公开(公告)号：

CN102360559A

公开(公告)日：

2012-02-22

发明(设计)人：

和田豊

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G11B7254

IPC分类号：

G11B724 G11B7243 G11B7257 G11B726

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

余刚;吴孟秋

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-04-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101217912574 IPC(主分类):G11B 7/254 专利申请号:2011103047434 申请日:20081125
2012-02-22	公开	公开
2015-09-16	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101720795643 IPC(主分类):G11B 7/254 专利申请号:2011103047434 申请公布日:20120222

共 50 条

[1]

光学记录介质基板及其制造方法、光学记录介质 [P].

中山比吕史 ;

竹本宏之 ;

菊地稔 ;

松浦穗 .

中国专利 :CN103824571B ,2014-05-28

[2]

光学记录介质及其制造方法 [P].

细川哲夫 ;

冈室昭男 .

中国专利 :CN101064139A ,2007-10-31

[3]

光学记录介质及其制造方法 [P].

猪狩孝洋 .

中国专利 :CN101751951A ,2010-06-23

[4]

光学记录介质及其制造方法 [P].

酒井武光 ;

佐飞裕一 ;

池田悦郎 .

中国专利 :CN101541552A ,2009-09-23

[5]

光学记录介质及其制造方法 [P].

诹访部正次 ;

中山比吕史 ;

猪狩孝洋 ;

太田辉之 .

中国专利 :CN101894569A ,2010-11-24

[6]

光学记录介质及其制造方法 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102349106B ,2012-02-08

[7]

光学记录介质及其制造方法 [P].

酒井武光 ;

池田悦郎 ;

佐飞裕一 .

中国专利 :CN101541554B ,2009-09-23

[8]

光学记录介质及其制造方法 [P].

川口优子 ;

富山盛央 .

中国专利 :CN1692412A ,2005-11-02

[9]

光学记录介质及其制造方法 [P].

菊地稔 ;

越田晃生 .

中国专利 :CN110914903B ,2020-03-24

[10]

光学记录介质及其制造方法 [P].

A·扎菲罗夫 ;

S·拉科夫斯基 ;

J·巴卡吉瓦－埃内瓦 ;

L·普拉霍夫 ;

L·阿塞诺瓦 ;

F·马兰迪诺 .

中国专利 :CN1500266A ,2004-05-26

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