光学记录介质及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880047688.5

申请日：

2018-06-11

公开(公告)号：

CN110914903B

公开(公告)日：

2020-03-24

发明(设计)人：

菊地稔越田晃生

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G11B724024

IPC分类号：

G11B724047

代理机构：

北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290

代理人：

瓮芳;陈桂香

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-16	授权	授权
2020-03-24	公开	公开
2020-07-03	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G11B 7/24024 申请日:20180611

共 50 条

[1]

光学记录介质的制造方法 [P].

G·S·贝内特 ;

Y·格里布诺 ;

G·希奇曼 ;

K·C·梅兰康 ;

W·G·舍佩尔 .

中国专利 :CN1291329A ,2001-04-11

[2]

光学记录介质基板及其制造方法、光学记录介质 [P].

中山比吕史 ;

竹本宏之 ;

菊地稔 ;

松浦穗 .

中国专利 :CN103824571B ,2014-05-28

[3]

光学记录介质及其制造方法 [P].

细川哲夫 ;

冈室昭男 .

中国专利 :CN101064139A ,2007-10-31

[4]

光学记录介质及其制造方法 [P].

猪狩孝洋 .

中国专利 :CN101751951A ,2010-06-23

[5]

光学记录介质及其制造方法 [P].

酒井武光 ;

佐飞裕一 ;

池田悦郎 .

中国专利 :CN101541552A ,2009-09-23

[6]

光学记录介质及其制造方法 [P].

诹访部正次 ;

中山比吕史 ;

猪狩孝洋 ;

太田辉之 .

中国专利 :CN101894569A ,2010-11-24

[7]

光学记录介质及其制造方法 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102349106B ,2012-02-08

[8]

光学记录介质及其制造方法 [P].

酒井武光 ;

池田悦郎 ;

佐飞裕一 .

中国专利 :CN101541554B ,2009-09-23

[9]

光学记录介质及其制造方法 [P].

川口优子 ;

富山盛央 .

中国专利 :CN1692412A ,2005-11-02

[10]

光学记录介质及其制造方法 [P].

和田豊 .

中国专利 :CN102360559A ,2012-02-22

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