光学记录介质的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN98813951.0

申请日：

1998-06-29

公开(公告)号：

CN1291329A

公开(公告)日：

2001-04-11

发明(设计)人：

G·S·贝内特 Y·格里布诺 G·希奇曼 K·C·梅兰康 W·G·舍佩尔

申请人：

申请人地址：

美国明尼苏达州

IPC主分类号：

G11B726

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

朱黎明

法律状态：

实质审查请求的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-04-18	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
2004-10-20	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2001-04-11	公开	公开

共 50 条

[1]

光学记录介质及其制造方法 [P].

菊地稔 ;

越田晃生 .

中国专利 :CN110914903B ,2020-03-24

[2]

光学记录介质及光学记录介质的制造方法 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN103578503A ,2014-02-12

[3]

制造光学记录介质的方法以及光学记录介质 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102027541A ,2011-04-20

[4]

用于光学记录介质的制造方法和光学记录介质 [P].

三木刚 .

中国专利 :CN102024477A ,2011-04-20

[5]

光学记录介质、制造光学记录介质的方法、记录方法及再现方法 [P].

藤田五郎 ;

齐藤公博 .

中国专利 :CN102013260A ,2011-04-13

[6]

光学记录介质以及用于制造光学记录介质的方法 [P].

菊地稔 ;

川崎弘幸 ;

大木隆 ;

中田芳昭 .

中国专利 :CN102024476B ,2011-04-20

[7]

在光学记录介质上写入的方法、光学记录介质以及制造光学记录介质的方法 [P].

R·J·M·武勒斯 ;

B·范罗姆佩伊 ;

A·米杰里特斯基 ;

D·J·阿德勒霍夫 ;

A·E·T·凯帕 ;

J·G·F·卡布劳 .

中国专利 :CN101199007A ,2008-06-11

[8]

光学记录介质基板及其制造方法、光学记录介质 [P].

中山比吕史 ;

竹本宏之 ;

菊地稔 ;

松浦穗 .

中国专利 :CN103824571B ,2014-05-28

[9]

光学记录介质和它的制造方法 [P].

山崎刚 ;

行本智美 .

中国专利 :CN1244099C ,2004-07-28

[10]

光学记录介质、制造光学记录介质的设备和方法以及记录/再现光学记录介质的数据的设备和方法 [P].

权埈焕 ;

黄盛凞 ;

李坰根 .

中国专利 :CN101542612A ,2009-09-23

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