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一种氮化镓单晶基片的氮极性表面的表面处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011493956.1
申请日
:
2020-12-17
公开(公告)号
:
CN112626622B
公开(公告)日
:
2021-04-09
发明(设计)人
:
徐耿钊
李忠念
陈晖
刘争晖
张春玉
陈科蓓
宋文涛
徐科
申请人
:
申请人地址
:
215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号
IPC主分类号
:
C30B3310
IPC分类号
:
C25F312
C30B2940
代理机构
:
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304
代理人
:
孙伟峰
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-04-27
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 33/10 申请日:20201217
2022-04-01
授权
授权
2021-04-09
公开
公开
共 50 条
[1]
获得平坦的半极性氮化镓表面的方法
[P].
韩重
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韩重
;
本亚明·梁
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本亚明·梁
.
中国专利
:CN106233429A
,2016-12-14
[2]
一种氮化镓表面的硫醇处理方法
[P].
蔡宇韬
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蔡宇韬
;
孙瑞泽
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孙瑞泽
;
陆骐峰
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陆骐峰
;
赵策洲
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赵策洲
;
梁永齐
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梁永齐
.
中国专利
:CN108109903A
,2018-06-01
[3]
一种p型氮化镓的表面处理方法
[P].
王彦杰
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王彦杰
;
胡晓东
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胡晓东
;
胡成余
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胡成余
;
张国义
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张国义
.
中国专利
:CN101335204B
,2008-12-31
[4]
一种氮极性氮化镓异质结材料的外延方法
[P].
李传皓
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机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
中国电子科技集团公司第五十五研究所
李传皓
;
彭大青
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机构:
中国电子科技集团公司第五十五研究所
中国电子科技集团公司第五十五研究所
彭大青
.
中国专利
:CN118588558A
,2024-09-03
[5]
一种氮极性氮化镓HEMT材料及其制备方法
[P].
周幸叶
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
周幸叶
;
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机构:
冯志红
;
吕元杰
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
吕元杰
;
张栋曜
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
张栋曜
;
高学栋
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
高学栋
.
中国专利
:CN120435022A
,2025-08-05
[6]
一种氮极性氮化镓HEMT器件、制备方法和应用
[P].
周幸叶
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
周幸叶
;
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机构:
冯志红
;
吕元杰
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
吕元杰
;
张栋曜
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
张栋曜
;
高学栋
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机构:
中国电子科技集团公司第十三研究所
中国电子科技集团公司第十三研究所
高学栋
.
中国专利
:CN120500075A
,2025-08-15
[7]
一种氮化镓基材料的表面处理方法及器件的制备方法
[P].
杨旭豪
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杨旭豪
;
王东
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王东
;
黄永
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黄永
;
陈财
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陈财
;
王亦飞
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王亦飞
;
陈军飞
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陈军飞
;
李彦佐
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李彦佐
.
中国专利
:CN115565875A
,2023-01-03
[8]
一种氮化镓原位剥离设备及制备氮化镓单晶的方法
[P].
张海忠
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机构:
福州大学
福州大学
张海忠
;
操权圣
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机构:
福州大学
福州大学
操权圣
;
杨胜裕
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机构:
福州大学
福州大学
杨胜裕
.
中国专利
:CN119593066A
,2025-03-11
[9]
一种通过表面改性自分离制备氮化镓单晶衬底的方法
[P].
吴洁君
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吴洁君
;
张国义
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张国义
;
罗伟科
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罗伟科
;
于彤军
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于彤军
;
康香宁
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康香宁
;
杨志坚
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杨志坚
.
中国专利
:CN103114332A
,2013-05-22
[10]
单晶氧化镓衬底基片表面原子级台阶结构的制备方法
[P].
徐晓明
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徐晓明
;
周海
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周海
;
黄传锦
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黄传锦
;
徐彤彤
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徐彤彤
;
夏斯伟
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夏斯伟
;
龚凯
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龚凯
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中国专利
:CN106784189A
,2017-05-31
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