真空处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510090792.7

申请日：

2005-08-16

公开(公告)号：

CN1767145A

公开(公告)日：

2006-05-03

发明(设计)人：

田口竜大

申请人：

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2108 H01L2120 H01L2130 B01J300 C23C1456 C23C1644 C23F100 C23F400 H01J3732

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人：

寿宁;张华辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-06-28	实质审查的生效	实质审查的生效
2014-10-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101587403862 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL2005100907927 申请日:20050816 授权公告日:20080416 终止日期:20130816
2006-05-03	公开	公开
2008-04-16	授权	授权

共 50 条

[1]

真空处理方法及真空处理装置 [P].

津田英司 .

中国专利 :CN105483639B ,2016-04-13

[2]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

日本专利 :CN113851391B ,2025-08-22

[3]

真空处理装置和真空处理方法 [P].

吉田雄祐 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

朝仓凉次 .

中国专利 :CN113851391A ,2021-12-28

[4]

真空处理装置和使用该真空处理装置的真空处理方法 [P].

郑京勳 ;

西口昌男 ;

岩瀬大辅 ;

卢基俊 ;

张万洙 .

中国专利 :CN115020275A ,2022-09-06

[5]

真空处理装置 [P].

矶村僚一 ;

田内勤 ;

近藤英明 .

中国专利 :CN102347256A ,2012-02-08

[6]

真空处理装置 [P].

田代征仁 ;

杉山成 .

中国专利 :CN113994021A ,2022-01-28

[7]

真空处理装置 [P].

池田治朗 ;

泷泽洋次 .

中国专利 :CN100554503C ,2007-04-25

[8]

真空处理装置 [P].

辻德彦 ;

诸井政幸 ;

泽地淳 ;

岩田辉夫 .

中国专利 :CN103334091A ,2013-10-02

[9]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[10]

真空处理装置的组装方法以及真空处理装置 [P].

岛田光一 .

中国专利 :CN102465279B ,2012-05-23

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