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真空处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080042799.4
申请日
:
2020-03-11
公开(公告)号
:
CN113994021A
公开(公告)日
:
2022-01-28
发明(设计)人
:
田代征仁
杉山成
申请人
:
申请人地址
:
日本神奈川县茅崎市荻园2500番地
IPC主分类号
:
C23C1434
IPC分类号
:
B25J906
代理机构
:
北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015
代理人
:
齐永红;秦岩
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-01-28
公开
公开
2022-02-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20200311
共 50 条
[1]
真空处理装置
[P].
藤井佳词
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
藤井佳词
.
中国专利
:CN113227445A
,2021-08-06
[2]
真空处理装置
[P].
铃木康司
论文数:
0
引用数:
0
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0
铃木康司
;
长岛英人
论文数:
0
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0
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0
长岛英人
;
藤井佳词
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤井佳词
.
中国专利
:CN113056572A
,2021-06-29
[3]
真空处理装置和使用该真空处理装置的真空处理方法
[P].
郑京勳
论文数:
0
引用数:
0
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0
郑京勳
;
西口昌男
论文数:
0
引用数:
0
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0
西口昌男
;
岩瀬大辅
论文数:
0
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0
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0
岩瀬大辅
;
卢基俊
论文数:
0
引用数:
0
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0
卢基俊
;
张万洙
论文数:
0
引用数:
0
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0
张万洙
.
中国专利
:CN115020275A
,2022-09-06
[4]
真空处理装置
[P].
矶村僚一
论文数:
0
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0
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0
矶村僚一
;
田内勤
论文数:
0
引用数:
0
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0
田内勤
;
近藤英明
论文数:
0
引用数:
0
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0
近藤英明
.
中国专利
:CN102347256A
,2012-02-08
[5]
真空处理装置
[P].
R.巴兹伦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
R.巴兹伦
.
中国专利
:CN102985591A
,2013-03-20
[6]
真空处理装置
[P].
藤井佳词
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤井佳词
.
中国专利
:CN111386599A
,2020-07-07
[7]
真空处理装置
[P].
阪上弘敏
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
阪上弘敏
;
北沢僚也
论文数:
0
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机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
北沢僚也
;
矶部辰德
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社爱发科
株式会社爱发科
矶部辰德
.
日本专利
:CN116745458B
,2025-10-03
[8]
真空处理装置
[P].
广野贵启
论文数:
0
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0
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广野贵启
;
多田勋
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多田勋
.
中国专利
:CN103154311A
,2013-06-12
[9]
真空处理装置
[P].
田口竜大
论文数:
0
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0
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田口竜大
.
中国专利
:CN1767145A
,2006-05-03
[10]
真空处理装置
[P].
藤井佳词
论文数:
0
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0
h-index:
0
藤井佳词
.
中国专利
:CN112789366A
,2021-05-11
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