真空处理装置

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专利类型
发明
申请号
CN202080042799.4
申请日
2020-03-11
公开(公告)号
CN113994021A
公开(公告)日
2022-01-28
发明(设计)人
田代征仁 杉山成
申请人
申请人地址
日本神奈川县茅崎市荻园2500番地
IPC主分类号
C23C1434
IPC分类号
B25J906
代理机构
北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015
代理人
齐永红;秦岩
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
真空处理装置 [P]. 
藤井佳词 .
中国专利 :CN113227445A ,2021-08-06
[2]
真空处理装置 [P]. 
铃木康司 ;
长岛英人 ;
藤井佳词 .
中国专利 :CN113056572A ,2021-06-29
[3]
真空处理装置和使用该真空处理装置的真空处理方法 [P]. 
郑京勳 ;
西口昌男 ;
岩瀬大辅 ;
卢基俊 ;
张万洙 .
中国专利 :CN115020275A ,2022-09-06
[4]
真空处理装置 [P]. 
矶村僚一 ;
田内勤 ;
近藤英明 .
中国专利 :CN102347256A ,2012-02-08
[5]
真空处理装置 [P]. 
R.巴兹伦 .
中国专利 :CN102985591A ,2013-03-20
[6]
真空处理装置 [P]. 
藤井佳词 .
中国专利 :CN111386599A ,2020-07-07
[7]
真空处理装置 [P]. 
阪上弘敏 ;
北沢僚也 ;
矶部辰德 .
日本专利 :CN116745458B ,2025-10-03
[8]
真空处理装置 [P]. 
广野贵启 ;
多田勋 .
中国专利 :CN103154311A ,2013-06-12
[9]
真空处理装置 [P]. 
田口竜大 .
中国专利 :CN1767145A ,2006-05-03
[10]
真空处理装置 [P]. 
藤井佳词 .
中国专利 :CN112789366A ,2021-05-11