真空处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980075427.9

申请日：

2019-09-12

公开(公告)号：

CN113056572A

公开(公告)日：

2021-06-29

发明(设计)人：

铃木康司长岛英人藤井佳词

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

C23C1400

IPC分类号：

C23C1434 H01L21285 H01L213065

代理机构：

北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015

代理人：

齐永红;秦岩

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-06-29	公开	公开
2021-07-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/00 申请日:20190912

共 50 条

[1]

真空处理装置 [P].

藤井佳词 .

中国专利 :CN113227445A ,2021-08-06

[2]

真空处理装置 [P].

田代征仁 ;

杉山成 .

中国专利 :CN113994021A ,2022-01-28

[3]

真空处理装置 [P].

藤井佳词 .

中国专利 :CN112789366A ,2021-05-11

[4]

真空处理装置 [P].

R.巴兹伦 .

中国专利 :CN102985591A ,2013-03-20

[5]

真空处理装置 [P].

藤井佳词 .

中国专利 :CN111386599A ,2020-07-07

[6]

真空处理装置 [P].

阪上弘敏 ;

北沢僚也 ;

矶部辰德 .

日本专利 :CN116745458B ,2025-10-03

[7]

真空处理装置 [P].

广野贵启 ;

多田勋 .

中国专利 :CN103154311A ,2013-06-12

[8]

真空处理装置 [P].

曺生贤 ;

金娧永 .

中国专利 :CN102034678B ,2011-04-27

[9]

真空处理装置、真空处理方法 [P].

饭岛荣一 ;

池田裕人 ;

箱守宗人 .

中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29

[10]

真空处理装置、真空处理系统和真空处理方法 [P].

山岸孝幸 ;

小林民宏 .

中国专利 :CN110610873B ,2019-12-24

← 1 2 3 4 5 →