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真空处理装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980086821.2
申请日：
2019-07-23
公开(公告)号：
CN113227445A
公开(公告)日：
2021-08-06
发明(设计)人：
藤井佳词
申请人：
申请人地址：
日本神奈川县茅崎市荻园2500番地
IPC主分类号：
C23C1434
IPC分类号：
C23C1400 H01L21203 H01L21285
代理机构：
北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015
代理人：
齐永红;秦岩
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-08-24 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20190723
2021-08-06 公开 公开
共 50 条
[1]
真空处理装置 [P]. 
铃木康司 ;
长岛英人 ;
藤井佳词 .
中国专利 :CN113056572A ,2021-06-29
[2]
真空处理装置 [P]. 
藤井佳词 .
中国专利 :CN112789366A ,2021-05-11
[3]
真空处理装置 [P]. 
藤井佳词 .
中国专利 :CN111386599A ,2020-07-07
[4]
真空处理装置 [P]. 
田代征仁 ;
杉山成 .
中国专利 :CN113994021A ,2022-01-28
[5]
连续真空处理装置 [P]. 
孙伟义 .
中国专利 :CN87208578U ,1988-06-22
[6]
真空处理装置 [P]. 
R.巴兹伦 .
中国专利 :CN102985591A ,2013-03-20
[7]
真空处理装置 [P]. 
阪上弘敏 ;
北沢僚也 ;
矶部辰德 .
日本专利 :CN116745458B ,2025-10-03
[8]
真空处理装置 [P]. 
广野贵启 ;
多田勋 .
中国专利 :CN103154311A ,2013-06-12
[9]
真空处理装置 [P]. 
曺生贤 ;
金娧永 .
中国专利 :CN102034678B ,2011-04-27
[10]
真空处理装置、真空处理方法 [P]. 
饭岛荣一 ;
池田裕人 ;
箱守宗人 .
中国专利 :CN102112646A ,2011-06-29
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