光学记录介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780008367.6

申请日：

2007-03-02

公开(公告)号：

CN101400522B

公开(公告)日：

2009-04-01

发明(设计)人：

出口浩司日比野荣子大仓浩子伊藤和典让原肇岩佐博之

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

B41M526

IPC分类号：

G11B724 G11B7243 G11B7254 G11B7257

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司 11245

代理人：

赵蓉民;路小龙

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-01	公开	公开
2021-02-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B41M 5/26 申请日:20070302 授权公告日:20111214 终止日期:20200302
2009-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-12-14	授权	授权

共 50 条

[1]

光学记录介质 [P].

田畑浩 .

中国专利 :CN102339615A ,2012-02-01

[2]

光学记录介质 [P].

黑川光太郎 ;

高川繁树 .

中国专利 :CN102347039A ,2012-02-08

[3]

光学记录介质 [P].

曽根康宏 .

中国专利 :CN114846544A ,2022-08-02

[4]

光学记录介质 [P].

猪狩孝洋 ;

渡边诚 .

中国专利 :CN104123953A ,2014-10-29

[5]

光学记录介质 [P].

曽根康宏 .

日本专利 :CN114846544B ,2025-06-10

[6]

多层相变光学记录介质 [P].

关口洋义 ;

筱塚道明 ;

真贝胜 ;

加藤将纪 .

中国专利 :CN101512647A ,2009-08-19

[7]

光学记录介质 [P].

大仓浩子 ;

日比野荣子 ;

出口浩司 ;

伊藤和典 .

中国专利 :CN101371305B ,2009-02-18

[8]

光学记录介质 [P].

中村有希 ;

八代彻 ;

见上竜雄 .

中国专利 :CN101138035A ,2008-03-05

[9]

光学记录介质及其制造方法 [P].

和田豊 .

中国专利 :CN102360559A ,2012-02-22

[10]

光学记录介质 [P].

山津久行 .

中国专利 :CN1167316A ,1997-12-10

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