一种简易、选择性制备单晶铜箔的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010709130.8
申请日
2020-07-22
公开(公告)号
CN112144116B
公开(公告)日
2020-12-29
发明(设计)人
姚志强 杨文龙
申请人
申请人地址
450000 河南省郑州市高新技术开发区科学大道100号
IPC主分类号
C30B2902
IPC分类号
C30B106
代理机构
郑州明德知识产权代理事务所(普通合伙) 41152
代理人
郭丽娜
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种廉价、简易制备单晶铜箔的方法 [P]. 
张勤芳 ;
霍占跃 .
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[2]
一种制备单晶铜箔的方法 [P]. 
刘忠范 ;
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[3]
一种单晶铜箔的制备方法 [P]. 
刘忠范 ;
彭海琳 ;
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[4]
一种高选择性制备呋喃铵盐的方法 [P]. 
程光锦 ;
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[5]
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[6]
一种快速制备(111)取向单晶铜箔的方法 [P]. 
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[7]
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孙禄钊 ;
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蔡阿利 ;
刘海洋 ;
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[8]
一种大尺寸单晶铜箔及其制备方法和应用 [P]. 
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[9]
一种选择性发射极P型单晶硅片的制备方法 [P]. 
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刘海泉 ;
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中国专利 :CN111883610A ,2020-11-03
[10]
单晶铜箔及其制备方法 [P]. 
刘忠范 ;
彭海琳 ;
李广亮 ;
张金灿 ;
刘晓婷 ;
张月新 .
中国专利 :CN110195251A ,2019-09-03