一种基于激光干涉光刻在材料表面制作微纳结构的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210356881.1
申请日
2012-09-24
公开(公告)号
CN102838082A
公开(公告)日
2012-12-26
发明(设计)人
于航 陆冰睿 刘冉
申请人
申请人地址
200433 上海市杨浦区邯郸路220号
IPC主分类号
B81C100
IPC分类号
G03F720
代理机构
上海正旦专利代理有限公司 31200
代理人
陆飞;盛志范
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
采用激光干涉光刻技术制作自清洁表面结构的方法和系统 [P]. 
王作斌 ;
张锦 ;
宋正勋 ;
翁占坤 ;
徐佳 ;
刘国强 .
中国专利 :CN101844272A ,2010-09-29
[2]
基于激光干涉纳米光刻在硅片上制备超疏水表面的方法 [P]. 
王作斌 ;
李文君 ;
王大鹏 ;
张子昂 ;
赵乐 ;
董莉彤 ;
宋正勋 .
中国专利 :CN103663358A ,2014-03-26
[3]
一种激光干涉纳米光刻制备双重周期纳米结构的方法 [P]. 
王作斌 ;
王大鹏 ;
张子昂 ;
刘洋 ;
于淼 ;
宋正勋 ;
翁占坤 ;
胡贞 ;
许红梅 .
中国专利 :CN103852975B ,2014-06-11
[4]
一种基于激光干涉光刻技术制备纳米图形的方法 [P]. 
何苗 ;
杨帆 ;
郑树文 ;
宿世臣 .
中国专利 :CN104820341A ,2015-08-05
[5]
激光干涉光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法和系统 [P]. 
刘洋 ;
王作斌 ;
赵乐 ;
刘兰娇 ;
徐佳 ;
侯煜 ;
翁占坤 ;
宋正勋 ;
胡贞 .
中国专利 :CN101980083A ,2011-02-23
[6]
一种投影辅助的双路径激光干涉光刻系统及方法 [P]. 
钟晓岚 ;
刘保磊 ;
宋佳奇 ;
王帆 ;
王大境 .
中国专利 :CN118426266A ,2024-08-02
[7]
制作表面等离子体微纳结构的方法 [P]. 
董小春 ;
杜春雷 ;
罗先刚 ;
李淑红 .
中国专利 :CN101024485A ,2007-08-29
[8]
一种激光干涉光刻制作无调制阵列结构的系统及方法 [P]. 
卢欣霁 .
中国专利 :CN110967945A ,2020-04-07
[9]
基于激光干涉诱导交联反应的金属微纳结构的制备方法 [P]. 
翟天瑞 ;
林远海 ;
张新平 ;
刘红梅 ;
王丽 .
中国专利 :CN103204460B ,2013-07-17
[10]
一种干法转印光刻胶制备微纳结构的方法 [P]. 
段辉高 ;
刘卿 ;
陈艺勤 ;
舒志文 .
中国专利 :CN111115564A ,2020-05-08