共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
一种缩短曝光时间的直写光刻装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922134967.X
申请日：
2019-12-03
公开(公告)号：
CN210954610U
公开(公告)日：
2020-07-07
发明(设计)人：
王伟
申请人：
申请人地址：
213000 江苏省常州市新北区乐山路58号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
深圳正和天下专利代理事务所(普通合伙) 44581
代理人：
杨波
法律状态：
授权
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-07-07 | 授权 | 授权 |