调节MOCVD反应室压力克服LED外延结构雾边的方法及系统

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专利类型
发明
申请号
CN201610490056.9
申请日
2016-06-29
公开(公告)号
CN106086810A
公开(公告)日
2016-11-09
发明(设计)人
陆俊 徐涛 蔡金 宋景峰 彭庆
申请人
申请人地址
215123 江苏省苏州市工业园区苏虹东路388号
IPC主分类号
C23C1618
IPC分类号
C23C1652 C30B2516
代理机构
南京苏科专利代理有限责任公司 32102
代理人
陆明耀;陈忠辉
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
MOCVD反应腔的压力控制系统及MOCVD外延设备 [P]. 
王涛 ;
王永 ;
郭军强 ;
陈军 .
中国专利 :CN120666310A ,2025-09-19
[2]
反应腔室的压力控制系统及压力控制方法 [P]. 
孙朋涛 ;
耿丹 ;
桂晓波 ;
郑建宇 ;
李补忠 .
中国专利 :CN110538620B ,2019-12-06
[3]
干熄焦预存室压力调节系统及调节方法 [P]. 
吴波 ;
牛彬彬 ;
杜树 ;
张学军 ;
张建建 ;
郝一风 ;
梁哲 .
中国专利 :CN118879347A ,2024-11-01
[4]
燃料电池的压力调节系统及压力调节方法 [P]. 
刘维 ;
张国强 .
中国专利 :CN104064790B ,2014-09-24
[5]
一种用于反应室的气浮驱动装置、系统及方法 [P]. 
盛飞龙 ;
郭嘉杰 ;
王鑫 ;
吴帆 ;
戴科峰 ;
梁启恒 .
中国专利 :CN115537780B ,2024-07-16
[6]
一种用于反应室的气浮驱动装置、系统及方法 [P]. 
盛飞龙 ;
郭嘉杰 ;
王鑫 ;
吴帆 ;
戴科峰 ;
梁启恒 .
中国专利 :CN115537780A ,2022-12-30
[7]
调整半导体反应室真空系统的排气压力的装置及方法 [P]. 
林育安 ;
林良文 ;
赖文成 ;
林昌平 .
中国专利 :CN1420526A ,2003-05-28
[8]
用于MOCVD系统中控制外延片温度及均匀性的装置与方法 [P]. 
陈爱华 ;
金小亮 .
中国专利 :CN101906622A ,2010-12-08
[9]
一种高压燃油系统压力调节结构及调节方法 [P]. 
刘隆娇 .
中国专利 :CN113847175A ,2021-12-28
[10]
使用机器人进行PCR反应的方法、系统及实验室 [P]. 
杨梅 ;
钟一鸣 .
中国专利 :CN108220122A ,2018-06-29