还原剂喷射器安装座及后处理系统

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201620125451.2
申请日
2016-02-18
公开(公告)号
CN205400860U
公开(公告)日
2016-07-27
发明(设计)人
J·J·德里斯科尔 D·D·埃克斯 J·文卡塔拉加
申请人
申请人地址
美国伊利诺伊州皮尔里亚市当街东北100号
IPC主分类号
F01N320
IPC分类号
代理机构
青岛联智专利商标事务所有限公司 37101
代理人
崔滨生
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
还原剂喷射器安装组件 [P]. 
R·A·克兰德尔 ;
孙金辉 ;
易勇 ;
黄志 ;
M·法伦克罗格 ;
J·E·韦伯斯特 ;
M·M·布兰可 .
中国专利 :CN204113400U ,2015-01-21
[2]
还原剂储存容器和排气后处理系统 [P]. 
赵怀志 ;
王波 ;
李治国 ;
户俊立 ;
李玮琳 ;
郭子旭 .
中国专利 :CN207999303U ,2018-10-23
[3]
还原剂喷射器用垫片以及废气后处理装置 [P]. 
平山道夫 ;
池田泰辅 ;
大西诚一 .
中国专利 :CN106194343A ,2016-12-07
[4]
一种还原剂喷射器 [P]. 
张宝源 .
中国专利 :CN205461765U ,2016-08-17
[5]
用于排气后处理系统的还原剂输送系统 [P]. 
M·米塔帕利 ;
伊诺克·南度鲁 ;
塞缪尔·约翰逊 ;
赖安·M·约翰逊 ;
卡尔提基·杰戈塔普 ;
维纳伊·库马尔·乔希 ;
艾西瓦娅·普拉文·乔希 .
中国专利 :CN115053053A ,2022-09-13
[6]
还原剂喷射器的热保护系统 [P]. 
J·M·佩林 ;
J·A·卡塔罗娜 .
中国专利 :CN101769190B ,2010-07-07
[7]
后处理系统的废气和还原剂混合器 [P]. 
刘志立 ;
A·卡扬卡尔 ;
N·施密特 ;
A·曼南努尔 .
中国专利 :CN114761676A ,2022-07-15
[8]
后处理系统的废气和还原剂混合器 [P]. 
刘志立 ;
A·卡扬卡尔 ;
N·施密特 ;
A·曼南努尔 .
美国专利 :CN114761676B ,2024-02-27
[9]
操作还原剂喷射器的方法 [P]. 
丹·斯滕奎斯特 ;
马丁·威廉松 ;
佩尔-约翰·卡尔森 .
:CN118327754A ,2024-07-12
[10]
后处理系统中的异步还原剂插入件 [P]. 
N·卡莱德 .
中国专利 :CN106523097A ,2017-03-22