变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法

被引:0
申请号
CN202080059840.9
申请日
2020-08-24
公开(公告)号
CN114341697A
公开(公告)日
2022-04-12
发明(设计)人
籔本洋
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
G02B15173
IPC分类号
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
季莹;方应星
法律状态
实质审查的生效
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
籔本洋 .
中国专利 :CN114286960A ,2022-04-05
[2]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
山本浩史 .
中国专利 :CN114286959A ,2022-04-05
[3]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
町田幸介 .
日本专利 :CN120077312A ,2025-05-30
[4]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
幸岛知之 ;
斋藤悠马 .
日本专利 :CN118805114A ,2024-10-18
[5]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
町田幸介 ;
栗林知宪 .
日本专利 :CN120077311A ,2025-05-30
[6]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
村谷真美 .
中国专利 :CN114375413A ,2022-04-19
[7]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 .
中国专利 :CN114868067A ,2022-08-05
[8]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
芝山敦史 .
中国专利 :CN107407795A ,2017-11-28
[9]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
町田幸介 .
中国专利 :CN108292029A ,2018-07-17
[10]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 ;
野中杏菜 ;
汤浅吉晴 ;
梅田武 .
中国专利 :CN114787682A ,2022-07-22