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变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202380027500.1
申请日：
2023-03-07
公开(公告)号：
CN118805114A
公开(公告)日：
2024-10-18
发明(设计)人：
幸岛知之 斋藤悠马
申请人：
株式会社尼康
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
G02B15/20
IPC分类号：
G02B13/18
代理机构：
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人：
季莹;方应星
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-11-05 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G02B 15/20申请日:20230307
2024-10-18 公开 公开
共 50 条
[1]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
小松原阳子 ;
梅田武 .
中国专利 :CN112368624A ,2021-02-12
[2]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
石川贵博 ;
横井规和 .
中国专利 :CN112585519A ,2021-03-30
[3]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
大竹史哲 ;
野中杏菜 .
中国专利 :CN113366362A ,2021-09-07
[4]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
三轮哲史 ;
幸岛知之 .
日本专利 :CN120513419A ,2025-08-19
[5]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
石川贵博 ;
横井规和 .
中国专利 :CN112601998A ,2021-04-02
[6]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
籔本洋 .
中国专利 :CN114286960A ,2022-04-05
[7]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
山本浩史 .
中国专利 :CN114286959A ,2022-04-05
[8]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
町田幸介 .
日本专利 :CN120077312A ,2025-05-30
[9]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
籔本洋 .
中国专利 :CN114341697A ,2022-04-12
[10]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
町田幸介 ;
栗林知宪 .
日本专利 :CN120077311A ,2025-05-30
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