半导体制造系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180012090.0

申请日：

2011-03-16

公开(公告)号：

CN102782805B

公开(公告)日：

2012-11-14

发明(设计)人：

池田岳宫下晃一竹马孝真五味晓志李振梅鹰野国夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L21027 H01L21205 H01L213065 H01L21677

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-11-14	公开	公开
2013-01-09	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101375968589 IPC(主分类):H01L 21/02 专利申请号:2011800120900 申请日:20110316
2015-07-08	授权	授权

共 50 条

[1]

半导体制造系统 [P].

八挂保夫 ;

加藤寿 ;

安原萌 ;

入江敬 .

中国专利 :CN1777985A ,2006-05-24

[2]

半导体制造系统 [P].

纳谷英光 ;

富吉力生 .

中国专利 :CN1577731A ,2005-02-09

[3]

半导体制造装置、半导体制造系统及半导体器件的制造方法 [P].

小桥英晴 .

日本专利 :CN119208185A ,2024-12-27

[4]

用于半导体制造工艺的冷却系统及半导体制造系统 [P].

福住幸大 .

日本专利 :CN120769968A ,2025-10-10

[5]

半导体制造装置、半导体制造系统和衬底处理方法 [P].

中尾隆 ;

宫崎邦浩 .

中国专利 :CN1445822A ,2003-10-01

[6]

半导体制造装置、系统及方法 [P].

陈志宏 ;

许加融 ;

林奕安 .

中国专利 :CN107116460A ,2017-09-01

[7]

清扫装置和半导体制造系统 [P].

宇都宫由典 ;

赤田光 .

中国专利 :CN113458095A ,2021-10-01

[8]

半导体制造系统 [P].

上村昌己 ;

中尾隆 .

中国专利 :CN1228813C ,2003-08-27

[9]

半导体制造系统 [P].

伴功二 ;

出水清史 .

中国专利 :CN1179005A ,1998-04-15

[10]

半导体制造系统 [P].

Y·E·李 ;

J·E·帕加尼希 ;

D·瓦萨罗 ;

G·K·福莱明格 .

中国专利 :CN1148250C ,2001-07-25

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