电解液、电解铜箔及其制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710161342.5

申请日：

2017-03-17

公开(公告)号：

CN108505076B

公开(公告)日：

2018-09-07

发明(设计)人：

邹明仁黄金城林士晴

申请人：

申请人地址：

中国台湾台北市

IPC主分类号：

C25D104

IPC分类号：

C25D338 C22F108

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

冯志云;王芝艳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-28	授权	授权
2018-10-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 1/04 申请日:20170317
2018-09-07	公开	公开

共 50 条

[1]

电解铜箔制造用铜电解液及电解铜箔的制造方法 [P].

杉元晶子 .

中国专利 :CN1748048A ,2006-03-15

[2]

一种电解铜箔的电解液添加剂、电解液、电解铜箔及其制备方法 [P].

胡浩 ;

宋克兴 ;

代明伟 ;

程浩艳 ;

张彦敏 .

中国专利 :CN113481551B ,2021-10-08

[3]

电解铜箔用电解液及其制备铜箔的方法、铜箔 [P].

高晓航 ;

谢文宾 ;

尹卫华 .

中国专利 :CN119710840A ,2025-03-28

[4]

用于制造电解铜箔的电解液 [P].

花房干夫 .

中国专利 :CN101978100A ,2011-02-16

[5]

一种电解液、电解铜箔及其制备方法 [P].

张嵩岩 ;

王学江 ;

孙云飞 ;

张艳卫 ;

王其伶 ;

刘铭 ;

徐媛亭 ;

陈萌 .

中国专利 :CN118653185A ,2024-09-17

[6]

一种高性能电解铜箔的电解液、电解铜箔及其制备方法、应用 [P].

林家宝 .

中国专利 :CN121023597A ,2025-11-28

[7]

电解铜箔用添加剂、电解铜箔用电解液、铜箔及其制备方法 [P].

唐云志 ;

兰杰 ;

樊小伟 ;

孙桢 ;

谭育慧 .

中国专利 :CN113445081B ,2021-09-28

[8]

电解液供应装置及电解铜箔制造装置 [P].

金相裕 ;

崔玹彰 .

中国专利 :CN208038572U ,2018-11-02

[9]

铜电解液和从该铜电解液制造出的电解铜箔 [P].

熊谷正志 ;

花房干夫 .

中国专利 :CN1726309A ,2006-01-25

[10]

电解铜箔及其制造方法 [P].

川崎利雄 ;

小沼刚 ;

远藤安浩 .

日本专利 :CN113166960B ,2024-11-29

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