铜电解液和从该铜电解液制造出的电解铜箔

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200380106297.X

申请日：

2003-10-10

公开(公告)号：

CN1726309A

公开(公告)日：

2006-01-25

发明(设计)人：

熊谷正志花房干夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C25D104

IPC分类号：

C25D338

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

段承恩;田欣

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-08-12	授权	授权
2006-01-25	公开	公开
2017-04-12	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101749932484 IPC(主分类):C25D 1/04 专利号:ZL200380106297X 变更事项:专利权人变更前:吉坤日矿日石金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都
2021-04-02	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C25D 1/04 变更事项:专利权人变更前:捷客斯金属株式会社变更后:捷客斯金属株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都港区虎之门二丁目10番4号
2011-05-04	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101083902487 IPC(主分类):C25D 1/04 专利号:ZL200380106297X 变更事项:专利权人变更前权利人:日矿金属株式会社变更后权利人:吉坤日矿日石金属株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都登记生效日:20110324
2006-03-22	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

电解铜箔制造用铜电解液及电解铜箔的制造方法 [P].

杉元晶子 .

中国专利 :CN1748048A ,2006-03-15

[2]

作为添加剂含有具有特定骨架化合物的铜电解液以及由该铜电解液制造的电解铜箔 [P].

土田克之 ;

小林弘典 ;

熊谷正志 .

中国专利 :CN1946879A ,2007-04-11

[3]

用于制造电解铜箔的电解液 [P].

花房干夫 .

中国专利 :CN101978100A ,2011-02-16

[4]

电解液、电解铜箔及其制造方法 [P].

邹明仁 ;

黄金城 ;

林士晴 .

中国专利 :CN108505076B ,2018-09-07

[5]

一种电解铜箔的电解液添加剂、电解液、电解铜箔及其制备方法 [P].

胡浩 ;

宋克兴 ;

代明伟 ;

程浩艳 ;

张彦敏 .

中国专利 :CN113481551B ,2021-10-08

[6]

包含季铵化合物聚合物和有机硫化合物的铜电解液以及由该电解液制造的电解铜箔 [P].

熊谷正志 ;

花房干夫 .

中国专利 :CN1312323C ,2005-01-12

[7]

电解铜涂层及其制造方法，用于制造电解铜涂层的铜电解液 [P].

斋藤贵广 ;

铃木裕二 ;

伊内祥哉 ;

西川哲治 .

中国专利 :CN102105622A ,2011-06-22

[8]

一种高抗拉铜箔电解液添加剂组合物、铜电解液和电解铜箔的制备方法 [P].

王朋举 ;

刘平 ;

明智耀 ;

明荣贵 ;

肖永祥 .

中国专利 :CN120465068A ,2025-08-12

[9]

含有具有特定骨架的含二烷基氨基的聚合物和有机硫化合物作为添加剂的铜电解液以及由该电解液制造的电解铜箔 [P].

土田克之 ;

熊谷正志 ;

花房干夫 .

中国专利 :CN1806067B ,2006-07-19

[10]

电解铜箔的铜电解液中氯离子的测量方法 [P].

许程轶 ;

王文昌 ;

陈智栋 ;

明小强 ;

王朋举 ;

鲁卫平 .

中国专利 :CN110220964A ,2019-09-10

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