碘系偏光膜及其制造方法和使用该碘系偏光膜的偏光板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680007721.9

申请日：

2006-03-09

公开(公告)号：

CN101137917A

公开(公告)日：

2008-03-05

发明(设计)人：

望月典明吉冈乾一郎田中兴一松下义昭

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G02B530

IPC分类号：

G02F11335

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

樊卫民;郭国清

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-10-14	授权	授权
2008-03-05	公开	公开
2008-05-14	实质审查的生效	实质审查的生效
2020-03-10	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 5/30 申请日:20060309 授权公告日:20091014 终止日期:20190309

共 50 条

[1]

碘系染料、碘系偏光膜的制备方法 [P].

丁丽婷 ;

吕新坤 ;

江林 .

中国专利 :CN103725037B ,2014-04-16

[2]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN114026474A ,2022-02-08

[3]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN118769524A ,2024-10-15

[4]

偏光膜、偏光板和该偏光膜的制造方法 [P].

岛津亮 ;

后藤周作 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN114026471A ,2022-02-08

[5]

偏光膜、偏光板及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

后藤周作 ;

滨本大介 .

日本专利 :CN113994243B ,2024-08-27

[6]

偏光膜、偏光板以及该偏光膜的制造方法 [P].

森崎真由美 ;

后藤周作 ;

岛津亮 .

日本专利 :CN118915221A ,2024-11-08

[7]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

日本专利 :CN113508316B ,2024-09-17

[8]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

滨本大介 ;

上条卓史 .

日本专利 :CN119861444A ,2025-04-22

[9]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

黑原薫 ;

后藤周作 ;

南川善则 ;

森崎真由美 .

中国专利 :CN113508316A ,2021-10-15

[10]

偏光膜、偏光板、及该偏光膜的制造方法 [P].

高永幸佑 ;

滨本大介 ;

上条卓史 .

中国专利 :CN113412439A ,2021-09-17

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