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蚀刻液组合物、显示装置用阵列基板的制法及阵列基板
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201711244038.3
申请日
:
2017-11-30
公开(公告)号
:
CN108570679A
公开(公告)日
:
2018-09-25
发明(设计)人
:
鞠仁说
尹暎晋
李钟文
申请人
:
申请人地址
:
韩国全罗北道
IPC主分类号
:
C23F126
IPC分类号
:
C23F118
H01L213213
H01L2712
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
金鲜英;宋海花
法律状态
:
发明专利申请公布后的撤回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-03-03
发明专利申请公布后的撤回
发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):C23F 1/26 申请公布日:20180925
2018-10-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/26 申请日:20171130
2018-09-25
公开
公开
共 50 条
[1]
蚀刻液组合物、显示装置用阵列基板的制法及阵列基板
[P].
李恩远
论文数:
0
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李恩远
;
朴升煜
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朴升煜
;
田玹守
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田玹守
.
中国专利
:CN108342734B
,2018-07-31
[2]
蚀刻液组合物和显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
李恩远
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李恩远
;
朴升煜
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朴升煜
;
田玹守
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田玹守
;
梁承宰
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梁承宰
.
中国专利
:CN107988598A
,2018-05-04
[3]
蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
金范洙
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金范洙
;
尹暎晋
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尹暎晋
;
赵现洙
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赵现洙
;
鞠仁说
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鞠仁说
;
李昔准
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李昔准
;
李恩远
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李恩远
.
中国专利
:CN114381733A
,2022-04-22
[4]
蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
金范洙
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机构:
东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
金范洙
;
尹暎晋
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机构:
东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
尹暎晋
;
赵现洙
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机构:
东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
赵现洙
;
鞠仁说
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东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
鞠仁说
;
李昔准
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东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
李昔准
;
李恩远
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机构:
东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
李恩远
.
韩国专利
:CN114381733B
,2024-11-08
[5]
显示装置用阵列基板制造方法、蚀刻液组合物及蚀刻方法
[P].
梁圭亨
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梁圭亨
;
金童基
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金童基
;
金炼卓
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金炼卓
;
权五柄
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权五柄
.
中国专利
:CN106467969A
,2017-03-01
[6]
多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法
[P].
刘仁浩
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刘仁浩
;
金范洙
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金范洙
;
南基龙
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南基龙
.
中国专利
:CN108220963A
,2018-06-29
[7]
蚀刻液组合物、显示装置用阵列基板及其制造方法
[P].
刘仁浩
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刘仁浩
;
金宝衡
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金宝衡
;
南基龙
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南基龙
.
中国专利
:CN107316836A
,2017-11-03
[8]
蚀刻液组合物、显示装置用阵列基板及其制造方法
[P].
金童基
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金童基
;
权五柄
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权五柄
;
金镇成
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金镇成
;
梁圭亨
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梁圭亨
;
金炼卓
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金炼卓
.
中国专利
:CN106835138A
,2017-06-13
[9]
蚀刻液组合物、配线、显示装置用阵列基板及其制造方法
[P].
李承洙
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李承洙
;
权玟廷
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权玟廷
;
沈庆辅
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沈庆辅
.
中国专利
:CN108265296A
,2018-07-10
[10]
蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法
[P].
刘仁浩
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刘仁浩
;
金范洙
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金范洙
;
南基龙
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南基龙
.
中国专利
:CN108070376A
,2018-05-25
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