厚膜电路孔金属化方法及厚膜电路印刷方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010155634.X
申请日
2020-03-09
公开(公告)号
CN113380630A
公开(公告)日
2021-09-10
发明(设计)人
李林军 谭朗
申请人
申请人地址
400700 重庆市北碚区蔡家岗镇同熙路99号
IPC主分类号
H01L2148
IPC分类号
H01L2170 H01L2167
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
尹丽云
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种厚膜混合集成电路孔金属化制造工艺 [P]. 
顾伟民 ;
吴荧 ;
黄剑龙 .
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[2]
彩电厚膜电路 [P]. 
卢云良 .
中国专利 :CN3511255D ,2006-03-08
[3]
厚膜混合电路结构及制造方法 [P]. 
黄洪光 ;
李顺隆 .
中国专利 :CN103700656A ,2014-04-02
[4]
一种厚膜电路模板金属化孔导通测试装置 [P]. 
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[5]
厚膜电路形成图形的方法 [P]. 
R·L·科伊斯彦 .
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[6]
厚膜电路元件及其制造方法 [P]. 
北川幸久 .
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[7]
厚膜电路板 [P]. 
邓进甫 ;
陈杏良 .
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[8]
多基片厚膜电路 [P]. 
皇甫魁 ;
孙福江 ;
冼静姗 ;
孙建刚 ;
王明聪 ;
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[9]
厚膜电路显影装置 [P]. 
周书娟 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN223108261U ,2025-07-15
[10]
表贴厚膜电路 [P]. 
黄凤斌 ;
吴文建 .
中国专利 :CN3331454D ,2003-10-22