一种氮化-净化去除冶金硅中硼杂质的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110038313.6

申请日：

2021-01-12

公开(公告)号：

CN112794332B

公开(公告)日：

2021-05-14

发明(设计)人：

张立峰李亚琼任英杨文罗艳姜东滨音正元

申请人：

申请人地址：

100083 北京市海淀区学院路30号

IPC主分类号：

C01B33037

IPC分类号：

C01B21068

代理机构：

北京市广友专利事务所有限责任公司 11237

代理人：

张仲波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-14	公开	公开
2022-05-24	授权	授权
2021-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 33/037 申请日:20210112

共 50 条

[1]

冶金硅中杂质硼的去除方法 [P].

蒋光辉 .

中国专利 :CN101597063A ,2009-12-09

[2]

一种去除冶金硅中硼杂质的方法 [P].

张济祥 ;

汪云华 ;

许金泉 ;

李柏榆 ;

王钟钰 ;

李海燕 ;

陈小番 ;

王春琴 .

中国专利 :CN102134076B ,2011-07-27

[3]

一种基于超细氮化物转化-净化冶金硅中杂质硼的方法 [P].

李亚琼 ;

张立峰 ;

姜东滨 ;

王祎 ;

段豪剑 ;

罗艳 ;

音正元 .

中国专利 :CN112811427B ,2021-05-18

[4]

一种冶金级硅中杂质硼去除的方法 [P].

余文轴 ;

梅杰 ;

魏鹏 ;

陈浩 ;

辛云涛 ;

胡丽文 ;

党杰 ;

游志雄 ;

张生富 ;

扈玫珑 ;

徐健 ;

邱贵宝 ;

吕学伟 .

中国专利 :CN112110450A ,2020-12-22

[5]

一种低成本去除冶金硅中杂质硼的方法 [P].

黄仕华 ;

周理想 ;

陈达 ;

丁月珂 ;

芮哲 .

中国专利 :CN110342525A ,2019-10-18

[6]

一种去除冶金级硅中硼的方法 [P].

雷云 ;

马文会 ;

谢克强 ;

吕国强 ;

伍继君 ;

魏奎先 ;

李绍元 ;

戴永年 .

中国专利 :CN104891500A ,2015-09-09

[7]

一种去除冶金级硅中杂质的方法 [P].

雷云 ;

马文会 ;

谢克强 ;

吕国强 ;

伍继君 ;

魏奎先 ;

秦博 ;

李绍元 ;

刘战伟 ;

于洁 ;

戴永年 .

中国专利 :CN106115717A ,2016-11-16

[8]

一种冶金法去除工业硅中杂质硼的方法 [P].

谭毅 ;

李亚琼 ;

李佳艳 ;

武深瑞 .

中国专利 :CN102249243A ,2011-11-23

[9]

一种硅中硼杂质的去除方法 [P].

马文会 ;

伍继君 ;

王烨 ;

杨斌 ;

谢克强 ;

刘大春 ;

周阳 ;

魏奎先 ;

秦博 ;

梅向阳 ;

汪镜福 ;

戴永年 .

中国专利 :CN101565186A ,2009-10-28

[10]

一种强化去除冶金级硅中硼的方法 [P].

雷云 ;

马文会 ;

谢克强 ;

吕国强 ;

伍继君 ;

魏奎先 ;

李绍元 ;

刘战伟 ;

周阳 ;

于洁 ;

戴永年 .

中国专利 :CN105274619A ,2016-01-27

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