一种强化去除冶金级硅中硼的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510708829.1

申请日：

2015-10-28

公开(公告)号：

CN105274619A

公开(公告)日：

2016-01-27

发明(设计)人：

雷云马文会谢克强吕国强伍继君魏奎先李绍元刘战伟周阳于洁戴永年

申请人：

申请人地址：

650093 云南省昆明市五华区学府路253号

IPC主分类号：

C30B2906

IPC分类号：

C30B1100

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-02-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101647682151 IPC(主分类):C30B 29/06 专利申请号:2015107088291 申请日:20151028
2016-01-27	公开	公开
2018-03-06	授权	授权

共 50 条

[1]

一种去除冶金级硅中硼的方法 [P].

雷云 ;

马文会 ;

谢克强 ;

吕国强 ;

伍继君 ;

魏奎先 ;

李绍元 ;

戴永年 .

中国专利 :CN104891500A ,2015-09-09

[2]

一种冶金级硅中杂质硼去除的方法 [P].

余文轴 ;

梅杰 ;

魏鹏 ;

陈浩 ;

辛云涛 ;

胡丽文 ;

党杰 ;

游志雄 ;

张生富 ;

扈玫珑 ;

徐健 ;

邱贵宝 ;

吕学伟 .

中国专利 :CN112110450A ,2020-12-22

[3]

一种高效去除冶金级硅中杂质的方法 [P].

任永生 ;

曾毅 ;

马文会 ;

雷云 ;

魏奎先 ;

吕国强 ;

伍继君 ;

杨时聪 ;

王正省 ;

张亚坤 ;

曹静 .

中国专利 :CN115650239B ,2024-04-26

[4]

一种高效去除冶金级硅中杂质的方法 [P].

任永生 ;

曾毅 ;

马文会 ;

雷云 ;

魏奎先 ;

吕国强 ;

伍继君 ;

杨时聪 ;

王正省 ;

张亚坤 ;

曹静 .

中国专利 :CN115650239A ,2023-01-31

[5]

一种去除冶金级硅中杂质的方法 [P].

雷云 ;

马文会 ;

谢克强 ;

吕国强 ;

伍继君 ;

魏奎先 ;

秦博 ;

李绍元 ;

刘战伟 ;

于洁 ;

戴永年 .

中国专利 :CN106115717A ,2016-11-16

[6]

一种利用复合亲硼添加剂去除冶金级硅中硼的方法 [P].

任永生 ;

曾毅 ;

马文会 ;

雷云 ;

魏奎先 ;

伍继君 ;

吕国强 ;

谢克强 ;

颜恒维 ;

刘战伟 ;

李绍元 ;

于洁 ;

万小涵 ;

陈正杰 .

中国专利 :CN113697815A ,2021-11-26

[7]

一种冶金级硅中磷和硼的去除方法 [P].

陈朝 ;

何发林 ;

陈文辉 ;

庞爱锁 ;

罗学涛 .

中国专利 :CN101844768B ,2010-09-29

[8]

一种低硼磷冶金级硅的制备方法 [P].

石忠宁 ;

李亮星 ;

刘爱民 ;

何文才 ;

谢开钰 ;

关苹苹 ;

吴晓卫 ;

徐君莉 ;

胡宪伟 ;

高炳亮 ;

王兆文 .

中国专利 :CN104593828A ,2015-05-06

[9]

一种氮化-净化去除冶金硅中硼杂质的方法 [P].

张立峰 ;

李亚琼 ;

任英 ;

杨文 ;

罗艳 ;

姜东滨 ;

音正元 .

中国专利 :CN112794332B ,2021-05-14

[10]

一种复合精炼剂去除冶金级硅中杂质硼的方法 [P].

伍继君 ;

马文会 ;

贾斌杰 ;

谢克强 ;

魏奎先 ;

周阳 ;

杨斌 ;

刘大春 ;

戴永年 .

中国专利 :CN103058201A ,2013-04-24

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