用于CMP的研磨颗粒体系及抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310753961.5

申请日：

2013-12-31

公开(公告)号：

CN103725256A

公开(公告)日：

2014-04-16

发明(设计)人：

钟旻

申请人：

申请人地址：

201210 上海市浦东新区浦东张江高斯路497号

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

C09G102 C23F300

代理机构：

上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275

代理人：

吴世华;林彦之

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-12	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09K 3/14 申请公布日:20140416
2016-03-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101653376633 IPC(主分类):C09K 3/14 专利申请号:2013107539615 申请日:20131231
2014-04-16	公开	公开

共 50 条

[1]

晶圆研磨颗粒、抛光液及清洗系统 [P].

刘慧超 .

中国专利 :CN113105865A ,2021-07-13

[2]

用于CMP抛光液的紫外催化方法 [P].

王同庆 ;

王婕 ;

路新春 .

中国专利 :CN105563341A ,2016-05-11

[3]

CMP抛光液供应系统 [P].

廖垂鑫 ;

柳滨 ;

陈威 .

中国专利 :CN101648365A ,2010-02-17

[4]

用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液 [P].

刘玉岭 ;

武晓玲 .

中国专利 :CN1858132A ,2006-11-08

[5]

一种用于化学机械研磨的抛光液 [P].

杨春晓 ;

王晨 ;

徐春 .

中国专利 :CN101649162A ,2010-02-17

[6]

一种用于化学机械研磨的抛光液 [P].

王晨 ;

徐春 .

中国专利 :CN102112567A ,2011-06-29

[7]

复合陶瓷研磨抛光液 [P].

P·S·拉格 ;

D·K·勒胡 .

中国专利 :CN105517758B ,2016-04-20

[8]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101397482A ,2009-04-01

[9]

抛光液及使用该抛光液的抛光方法 [P].

上村哲也 .

中国专利 :CN101333417A ,2008-12-31

[10]

适用于精细雾化CMP的铜抛光液 [P].

李庆忠 ;

张慧 .

中国专利 :CN102199400A ,2011-09-28

← 1 2 3 4 5 →